В Зеленограде состоялась презентация первого в России оборудования для производства микросхем с технологии 65 нм на 300-мм пластинах, разработанного компаниями НИИМЭ и НИИТМ. Это событие произошло 10 декабря, когда были подписаны документы о госприемке новинки. НИИ молекулярной электроники выступил основным исполнителем, обеспечив необходимые условия для испытаний и монтажа оборудования. Общая сумма инвестиций в проект составила 2,5 миллиарда рублей, включая средства от Минпромторга и собственные вложения НИИМЭ.
Созданные системы предназначены для плазмохимического осаждения и травления, что составляет до 40% всех операций по производству чипов. Оборудование кластерного типа позволяет объединять несколько установок, что снижает себестоимость и повышает качество продукции. Новые установки обеспечивают гибкость в производственных процессах, позволяя выпускать интегральные микросхемы на 200- и 300-мм пластинах.
В дальнейшем планируется продвигать оборудование как на внутреннем, так и на внешнем рынках, включая презентацию в Китае. Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков заявил, что для реализации одного комплекта потребуется около 1,5 лет.