В 2026 году Россия приступит к созданию литографа, предназначенного для производства чипов по топологии 90 нм. Об этом на научно-технической конференции в радиоэлектронной отрасли 20 марта заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак. Исполнитель будет избран по результатам конкурса, в котором участвует Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) в сотрудничестве с белорусской компанией «Планар», ранее работавшей над литографами 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв пока не подтвердил участие в конкурсе. В ноябре 2026 года планируется завершить проектирование ступенчатого литографа с разрешением 130 нм. Эксперты, такие как академик Дмитрий Пшиченко, отмечают, что создание литографа с нуля может занять до десяти лет и потребовать значительных инвестиций. Также важно наличие экосистемы для поддержки массового производства, включая фотошаблоны и материалы. Разработанный литограф на 130 нм можно доработать для создания чипов 90 нм с помощью двукратного экспонирования.