В марте 2026 года в России начнется разработка первого литографа, позволяющего производить микросхемы по технологии 90 нанометров. Об этом сообщил заместитель министра промышленности России. В настоящее время в стране уже создан литограф на 350 нм, и завершены работы над 130-нм версией. Эта инициатива является частью усилий по импортозамещению в области литографического оборудования, начатых в 2022 году. По словам экспертов, в течение 2-3 лет в России появятся собственные 90-нм технологии, которые будут использоваться для изготовления микросхем для интернета вещей, автоэлектроники и других приложений. Главным разработчиком станет Зеленоградский нанотехнологический центр, который уже заключил контракты на поставку новых машин и работает над улучшением технологий. Ожидается, что к 2030 году России удастся запустить установки на 65 нм и 28 нм, что позволит значительно увеличить производственные мощности в области микроэлектроники.