Исследователи в Китае разработали инновационный настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения, что обозначает важный этап в стремлении страны достичь самообеспечения в производстве микрочипов. Этот новый инструмент способен производить чипы с топологическим узлом 14 нанометров. Хотя он не предназначен для полной замены оборудования компании ASML, он может служить полезной альтернативой для мелкосерийного производства и исследований. Уникальность данной технологии заключается в использовании фемтосекундного лазера и газа аргон для генерации UEI, что упрощает конструкцию и снижает стоимость по сравнению с громоздкими установками ASML. В то время как традиционные устройства ASML требуют значительного потребления энергии, новый источник обладает минимальным энергопотреблением, что делает его подходящим для проверки фотошаблонов и исследования транзисторных структур. Данная разработка открывает новые возможности для китайских производителей и может существенно снизить зависимость от западных технологий.