26 февраля, Сан-Хосе, Калифорния (Рейтер) — ASML Holding сообщила, что их литографическая машина нового поколения готова к внедрению в производство микрочипов, обозначая важный шаг для глобальной индустрии полупроводников. Данная компания, являющаяся единственным производителем коммерческих установок для фотолитографии в диапазоне экстремального ультрафиолета (EUV), предполагает, что новое оборудование будет полезно таким лидерам, как Taiwan Semiconductor Manufacturing и Intel, для создания более мощных и эффективных чипов, тем самым облегчающих ряд сложных этапов производства. Результаты планируется обнародовать на конференции в Сан-Хосе в четверг, сообщил директор по технологиям Марко Питерс. С развитием технологий, когда текущие EUV-машины достигают пределов своих возможностей, высоконапольные установки High-NA EUV стали наиважнейшими для поддержания роста таких приложений, как ИИ. Стоимость новых устройств составляет около $400 миллионов, что вдвое превышает первоначальные затраты.