Китайские инженеры достигли значимого достижения, разработав первый прототип литографа для экстремального ультрафиолета (EUV). Это технология, ранее находившаяся под контролем голландской компании ASML, играет ключевую роль в изготовлении современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новый отчет свидетельствует о заметном прогрессе в данной области. На протяжении нескольких лет китайские компании, включая SMIC, пытались воспроизвести достижения ASML, привлекая специалистов и осуществляя обратную разработку с использованием устаревших компонентов. ASML уже выигрывала суды против бывших сотрудников из Китая, обвиняя их в нарушении коммерческой тайны. Несмотря на достижение прототипа, серийное производство чипов с EUV-технологией в Китае еще не начато, однако ожидается его запуск к 2030 году. Это событие происходит на фоне обостряющейся технологической конкуренции между США и Китаем, особенно в сфере искусственного интеллекта. Кроме того, в Китае компания Huawei совместно с SMIC активно развивает производственные мощности, ведь литографические машины EUV представляют собой результат многолетних исследований. Эти машины используют мощный лазер для создания ультрафиолетового излучения, которое позволяет наносить сложные схемы на кремниевые пластины с минимальными размерами элементов.