Японская фирма Dai Nippon Printing сделала значительный шаг в области нанолитографии, что может изменить текущую ситуацию на рынке чипов, где преобладает фотолитография. По данным Nikkei Asia, нидерландская компания ASML контролирует до 90% этого рынка, предлагая оборудование для фотолитографии, использующее мощные УФ-лазеры для создания микросхем на кремнии. Этот процесс требует значительных энергетических затрат, а стоимость оборудования может достигать сотен миллионов долларов.
Однако новая разработка Dai Nippon Printing бросает вызов существующим технологиям. Инженеры компании нашли способ преодолеть ограничения, позволяя создавать чипы с топологическим узлом менее 2 нм с помощью специального материала, который формирует точный след микросхемы. Используя оборудование Canon, они добились создания структур размером до 1,4 нм. В результате новая нанолитография оказывается на 90% дешевле традиционной фотолитографии.
Проект уже привлек внимание крупных производителей, таких как Samsung Electronics, TSMC, Micron Technology и Kioxia, которые заинтересованы в его стабильности. Kioxia начала тестовые испытания, и если они будут успешными, массовое внедрение технологии может начаться в 2027-2028 годах.